中国科学技术大学湿法工艺台更正公告

一、项目基本情况

原公告的采购项目编号：ZF*-0*-*　　　　　　

原公告的采购项目名称：中国科学技术大学湿法工艺台　　　　　　

首次公告日期：*年0*月0*日　　　　　　

二、更正信息

更正事项：采购文件

更正内容：

我公司现对中国科学技术大学湿法工艺台招标文件做出如下答疑澄清。此次答疑澄清为招标文件的组成部分，具有同等效力。答疑澄清与招标文件不同之处，按本次答疑澄清执行。

项目答疑澄清如下：

*.前道-槽式晶圆清洗：

（*）设备槽体布局：槽体单排摆放，还是双排摆放（药液槽在内侧，水槽靠人在外侧）

答：所有工艺台的槽体（如有）均为双排摆放，药液槽在内侧，水槽靠人在外侧。

（*）电力：额定电压* V，额定功率≤* kW，设备额定功率不可能小于*KW，且标注为星号。

答：针对所有工艺台的功率限定做出调整，调整后的参数详见更新后的采购需求附件。

（*）尺寸：内宽：>* mm；加甩干机、柜子外宽<* mm；外深：*-* mm；（所有工艺台的外深应统一）内深：*-* mm；外高：能够运入* mm高的通道。请给出设备最大限制尺寸：长宽高。

答：宽：加甩干机、柜子外宽<* mm；深：*-* mm；高：<* mm。

（*）药液配比：请问药液来源，药液怎么进入设备工艺槽内（其他设备药液来源问题一样）

答：自动供液系统将配好的药液由管道输入设备工艺槽内。涉及药液的工艺台要求一致。

（*）清洗甩干机：配单独一台甩干机的意思吗单腔还是双腔（其他设备甩干机问题一样）

答：是；适配*英寸、*英寸、*英寸晶圆盒（casette）即可，不指定单腔双腔。涉及清洗甩干机的工艺台要求一致。

（*）废液排放（原液废料）：除DHF药液外，其他废液都排至厂务吗

答：是。

（*）废气排放：酸排、碱排、热排到厂务（每种* CMH）；所有厂务排放均向下（到地面）：意思是厂务排风接口，在高架板下面吗（其他设备问题一样）

答：是，厂务排风接口在高架地板下面。涉及废气排放的工艺台均为：厂务排风接口在高架地板下面。

（*）配件柜配置：须配置一个尺寸为高*m-*.*m，宽*cm-*cm，深*cm-*cm的配件柜：这是要配一个化学存放柜吗（其他设备问题一样）

答：否，配件柜用来放配件（例如烧杯、清洁用品）。涉及配件柜配置的工艺台要求一致。

*.前道-半自动光刻工艺台：**喷淋匀胶机、**喷淋显影机、**热板、**HMDS箱。需要提供这几个配件品牌、参数、型号：

答：不限定品牌型号。技术参数为：喷淋匀胶机、喷淋显影机适合*、*、*英寸晶圆；热板温度室温到*度可调；HMDS箱适配*、*、*英寸晶圆。

*.后道-自定义有机工艺台*：设置，超声水槽：请问产品是不是放在烧杯内操作，用于计算槽体尺寸（或者给出超声水槽大概尺寸）

答：是，放在烧杯内操作。超声水槽和QDR槽大小相同即可。

*.后道-自定义碱刻蚀工艺台：废液收集口：有机碱（TMAH，连到有机排）、无机碱（连到碱排）。一个水浴槽怎么有*个排液接口，是这个槽共用的吗（其他设备也有这一样的疑问）

答：否，水浴槽里不能排碱液。所有工艺台中无对应槽的倒液口应在槽外单独配置，倒液口可设置在台面另一侧。

*.后道-自定义HF刻蚀工艺台：废液收集口：浓HF、BOE类（连到含氟桶）、其它类（连到buffer tank加大量水排到含氟废水）。槽体设置只有一个QDR槽，怎么会有含氟废液，是台面上有个倒液口，倒入下方回收桶吗

答：是。采购需求中所有的“自定义”工艺台指的是可在空白台面上进行和其名称相关的自定义实验（如自定义HF刻蚀工艺台可进行和HF刻蚀相关的实验，产生的含氟废液可由设置在台面（槽外）的倒液口倒入下方回收桶）。

*.甩干机是独立一台设备，还是与主机台一体式甩干机也同样需要*/*/*共用是吗

答：可独立，需要适配*/*/*寸，单双腔均可；

*.配件柜配置：是不是就单独配一个柜子放在机台旁边就好这个柜子是存放片盒使用，是一般开放式柜子还是氮气柜

答：是。存放片盒、烧杯、耗材等，一般开放式柜子即可。

*.空白台面：是做实验放东西的平台?需要多大，关系到设备尺寸问题。目前已知四个槽体前后排列。后面机台都有此装置，空能相同是吗

答：是。除了槽体、排液口等之外其他部分均留空即可，目的是为了用户自定义实验。功能相同。

*.后道-自定义有机工艺台 *：槽设置：超声水槽、QDR： 具体槽体数量，关系空心台面，设备尺寸，看起来像是*个有机超声槽，其中一个需要水浴加热，*个QDR槽

答：否。本机台（*.*.*后道-自定义有机工艺台 *）只需要一个带超声的水槽，一个QDR槽即可。*.*.*后道-自定义有机工艺台需要*个有机NMP槽（不带超声）、两个QDR槽；两者不可混同。

*.后道-自定义碱刻蚀工艺台、后道-自定义碱刻蚀工艺台 *：槽设置：水浴槽、QDR：具体槽体数量，关系空心台面，设备尺寸，看起来像是*个碱槽，其中一个需要水浴加热，*个QDR槽；排放分：有机碱，无机碱单独排放（与*.*.*设备规格一致，是否有特殊地方）

答：否，没有碱槽，只有一个水浴槽和一个QDR槽；有机碱、无机碱须分别预留倒液口，在槽外单独配置，倒液口可设置在台面另一侧。

*.后道-自定义酸刻蚀工艺台、后道-自定义酸刻蚀工艺台 *：槽设置：超声水槽、QDR：具体槽体数量，关系空心台面，设备尺寸，看起来像是*个酸槽，一个超声水槽，一个QDR；排放分：磷酸（在设备内配置废液桶），非磷酸直排。

答：否，没有酸槽，只含一个带超声的水槽和一个QDR槽。磷酸、非磷酸须分别预留倒液口，在槽外单独配置，倒液口可设置在台面另一侧。

*.后道-自定义 HF 刻蚀工艺台：槽设置：QDR：具体槽体数量，关系空心台面，设备尺寸。排放分：HF;BOE类；其他类。

答：只有一个QDR槽。浓HF和BOE类、其他类须分别预留倒液口，在槽外单独配置，倒液口可设置在台面另一侧。

*.提供*套可拆卸的自定义工艺台盖板，盖板侧面配有四副手套：是否是需要*个手套箱做一般测试用，是不是要把手套箱放到其他设备内，因为设备内标注空白台面和插座看起来是要做实验用。

答：否。提供*套适配所有自定义工艺台的手套板，板面配有四副手套，所有自定义工艺台的前面板可替换成手套箱的前面板（湿法台直接作为手套箱使用），而不是放两个手套箱进去。同时替换后也应保证工艺台的密封性，防止危害物质泄露。

*.前道-半自动光刻工艺台：

（*）涂胶、显影，需适配*、*、*英寸晶圆或对应光刻掩膜版：需要对掩膜版做什么

答：对掩膜版进行涂胶显影。这是生产有图形的掩膜版的必备过程。

（*）额定功率≤* kW：这个功率没法达到**喷淋匀胶机、**喷淋显影机、**热板、**HMDS箱这些组件的功率。

答：针对所有工艺台的功率限定做出调整，调整后的参数详见更新后的采购需求附件。

（*）内宽：>* mm：这个是指设备不能小于这个宽度

答：指的是设备内部空间不能小于这个宽度。

（*）**喷淋匀胶机、**喷淋显影机、**热板、**HMDS箱：这里指的是模组吗，不是单独的设备吧

答：模组。

（*）清洗甩干机（Spin rinse dry）配置：涂胶显影机没有单独配清洗甩干机，涂胶显影单元本身有自动甩干功能。

答：要求单独配制一个清洗甩干机。

（*）须配置一个尺寸为高*m-*.*m，宽*cm-*cm，深*cm-*cm的配件柜：这个是要配一个单独的柜子放置配件对吗

答：是。

*.其他调整详见更新后的采购需求附件。

*.提交投标文件截止时间、开标时间修改为*年*月*日*点*分（北京时间）。

更正日期：*年0*月*日　

三、其他补充事宜

无

四、凡对本次公告内容提出询问，请按以下方式联系。

*.采购人信息

名 称：中国科学技术大学　　　　　

地址：合肥市金寨路*号　　　　　　　　

联系方式：宣老师、沈老师 0*-*　　　　　　

*.采购代理机构信息

名 称：安徽省招标集团股份有限公司　　　　　　　　　　　　

地　址：合肥市紫云路*号　　　　　　　　　　　　

联系方式：应急客服电话：0*-*（接听时间：*:*-*:00,*:*-*:*，节假日除外。潜在供应商应优先拨打项目联系人联系电话，无人接听时再拨打该“应急客服电话”）　　　　　　　　　　　　

*.项目联系方式

项目联系人：刘志凌、张文奇、陈鹏飞（*室）

电　话：　　0*-*、*、*、*